装置名	型式	メーカー
大気圧プラズマナノ加工装置	AP-01S-200M	積水化学工業
多目的プラズマ加工装置	ICF-500DS2hp	ナノテック
電子ビーム描画装置	ELS-7800	エリオニクス
多元系合金窒化膜PVD成膜装置	M-500C-303	日本アイ・ティ・エフ
水蒸気透過率測定装置	AQUATRAN	MOCON
超精密ナノ加工装置	ROBONANOα-OiB	ファナック
3Dファイバーレーザーマーカー	TASTE-M7タイプ 20W	ヨコハマシステムズ
電解研磨装置	DLyte１l＋Ti	GPAINNOVA

利用時間

9:00－17:00（土日、祝祭日および慶應義塾が定める休日は閉所します）

利用申請

予定表で装置の予約状況をご確認のうえ、以下のフォームより利用申請をしてください。

• 電子ビーム描画装置の利用申請は【SimpRentによるオンライン予約】に変更いたします。
  研究室IDでログインの上、備考欄に記名しご予約下さい。
  承認されましたら、当日は、TC棟セキュリティーカードを借用の上ご利用ください。
  9:00－17:00（土日、祝祭日および慶應義塾が定める休日は閉所します）
  
  https://keio.simprent.jp/top#/reservation/reservations?equipment_id=262

お問い合わせ

施設の利用に関するお問い合わせは、以下のフォームより受け付けています。